Nach positiver Absolvierung der Lehrveranstaltung sind Studierende in der Lage..

... grundlegende Prinzipien der Chemie auf die Prozesse der Mikrofabrikation anzuwenden
... die chemischen Prozesse für Ätzen, Abscheidung, Reinigung in der Prozesstechnologie zu verstehen
... eigenständig eine gepufferte Flußsäureätze aus den Einzelkomponenten anzumischen
... Prozesse für Elektrodeposition von Kupferschichten selbständig zu designen (V, A, duration)
... Gasflüsse für Trockenprozesse entsprechend der Reaktionsstöchiometrie auszuwählen
... an Nasswerkbänke im Reinraum mit Säuren, Laugen und Lösungsmitteln zu arbeiten

Theorie:
Chemische Konzepte (pH, Elektrochemie, Reaktionsmechanismen,...u.v.m.),Thermodynamik, Kinetik,
Mikrofabrikationsprozesse (Lithografie, RIE, CVD,...), welche auf chemischen Prozessen beruhen. 

Anwendung:
Rechenbeispiele zu Gasprozessen, Ätzprozessen, Gleichgewichtsreaktionen, etc.

Experimentelle Übung:
Sicherer Umgang mit Chemikalien (Säuren, Lösungsmittel, Gase)

Vortrag unterstützt mit ppt-Folien sowie Tafelzeichnungen
Anwendung der chemischen Prinzipien auf Fragestellungen des Alltags
Anwendung der chemischen Prinzipien auf Fragestellungen der Halbleitertechnologie
Gemeinsames Erarbeiten von chemischen Formeln und Reaktionsgleichungen
Gemeinsames physikalisch-chemisches Rechnen

Bitte um LVA-Anmeldung im TISS ***

Vorbesprechung: 02.03.2020 - 15h - Sem 362-2

Die Vorlesungsübung „Prozesschemie“ wird im SS2020 als BLOCKVORLESUNG abgehalten.
In SS2020 wird die Vorlesung gemäß Vereinbarung bei der Vorbesprechung 02.03.2020 ab 03.03. bis 11.03. vormittags von 9-13h abgehalten werden.
Der genaue Zeitplan wird in der Planungssitzung am 02. März 2020 gemeinsam mit allen anwesenden Studierenden festgelegt.

Location:  NanoCenter - Building CH

                 Gusshausstrasse 25a
                 Seminar room 2nd floor

Zur Vorlesung: Bitte Taschenrechner mitnehmen!

Mitarbeit beim interaktiven Unterricht, Vorrechnen von Beispielen an der Tafel, Stundenwiederholungen

Abschliessend mündliches Prüfungsgespräch mit bis zu 3 Rechenbeispielen

LVA-Unterlagen sind nur bei TISS-Anmeldung zugänglich

Kenntnisse in Lithography, CVD, RIE