Nach positiver Absolvierung der Lehrveranstaltung sind Studierende in der Lage...

... grundlegende Prinzipien der Chemie auf die Prozesse der Mikrofabrikation anzuwenden
... die chemischen Prozesse für Ätzen, Abscheidung, Reinigung in der Prozesstechnologie zu verstehen
... eigenständig eine gepufferte Flußsäureätze aus den Einzelkomponenten anzumischen
... Prozesse für Elektrodeposition von Kupferschichten selbständig zu designen (V, A, duration)
... Gasflüsse für Trockenprozesse entsprechend der Reaktionsstöchiometrie auszuwählen
... an Nasswerkbänke im Reinraum mit Säuren, Laugen und Lösungsmitteln zu arbeiten

Chemische Konzepte (pH, Elektrochemie, Reaktionsmechanismen,...u.v.m.),Thermodynamik, Kinetik, Herstellprozesse (Lithografie, RIE, CVD,...), welche auf chemischen Prozessen beruhen.  Sicherer Umgang mit Chemikalien (Säuren, Lösungsmittel, Gase

Vortrag unterstützt mit ppt-Folien sowie Tafelzeichnungen

Anwendung der chemischen Prinzipien auf Fragestellungen des Alltags
Anwendung der chemischen Prinzipien auf Fragestellungen der Halbleitertechnologie
Gemeinsames Erarbeiten von chemischen Formeln und Reaktionsgleichungen
Gemeinsames physikalisch-chemisches Rechnen

Die Vorlesungsübung „Prozesschemie“ wird im WS2020/21 als BLOCKVORLESUNG abgehalten:

Bitte um LVA-Anmeldung im TISS ***

Location:  NanoCenter - Building CH
                 Gusshausstrasse 25a
                 Seminar room 2nd floor

Bitte Taschenrechner mitnehmen!

Mitarbeit beim interaktiven Unterricht, Vorrechnen von Beispielen an der Tafel, Stundenwiederholungen

Abschliessend mündliches Prüfungsgespräch mit bis zu 3 Rechenbeispielen

Bitte im TISS anmelden zur besseren Planung und Administrierbarkeit.

Kenntnisse in Lithography, CVD, RIE