Nach positiver Absolvierung der Lehrveranstaltung sind Studierende in der Lage...

- die Grundprozesse und Prozessmodule der Halbleiterfertigung zu Beschreiben.

- die Integrationsflüsse für die Halbleiterfertigung integrierter CMOS, Bipolar und Halbleiter-Leistungselektronik zu erklären.

- die aktuelle Entwicklungen und Trends der Technologie und Skalierung der modernen Halbleiter Mikro- und Nanoelektronik zu beschreiben.

*** Wir sind stets bemüht die Lerninhlate  für das WS 2020/21 trotz der COVID-19 Einschränkungen gründlich zu übermitteln und die wichtige Interaktion  zwischen Studierenden und Lehrenden zu fördern. Bitte dazu die Hinweise unter den Abschnitt  "Methoden" beachten ***

*** Anmeldung ist offen ***

Diese VU richtet sich an Studentinnen und Studenten, die einen Einstieg in die Technologie der modernen integrierten Schaltungen  suchen bzw. ein ensprechendes Hintergrundwissen aufbauen wollen. Dabei soll eine durchgehende Verbindung zwischen der Halbleiterphysik, den Halbleiterbauelementen und der Fertigung modernster integrierter Schaltungen hergestellt werden. In der Vorlesung werden alle wichtigen Grundprozesse der Halbleitermikroelektronik vorgestellt und detailliert beschrieben. Besonders eingegangen wird auf die ´Einzelprozesse´ der Halbleiterfertigung, auf dessen zusammenführung in ´Prozessmodulen´ so wie auf die ´Prozessintegration´ für die Herstellung modernster CMOS-, Bipolar- und Leistungselektronik Schaltungen. Der Vorlesungsinhalt wird an Hand konkreter Beispiele aus der industriellen Praxis erläutert.

Vorlesung und Diskussionen, diese werden  im WS 2020/21 aufgrund der COVID-19 Pandemie online und live abgehalten;

* Das Skriptum wird im Sekretariat ab den 15. Oktober erhältlich sein

* Die Folien werden vorab über TUWEL abrufbar sein

* Die Aufgezeichnete Vorlesung werden Online zur Verfügung stehen, allerdings werden die Diskussionsteile nicht aufgenommen werden

Das Übungsteil beinhaltet die Eigenständige Literaturrecherche zu moderne Integrationsmethoden und Präsentation so wie Diskussion der Recherche. Die Bewertung der Übung wird 25% der Endnote betragen.

TUWEL Link wird eingeführt

Mündliche Prüfung, Bewertung der Übung (Literaturrecherche und Vortrag)

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Grundvesrtändnis elektronischer Halbleiterbaueleymenten z.B. (362.072)