362.060 Vorb. Prakt. Siliziumtechnologie
Diese Lehrveranstaltung ist in allen zugeordneten Curricula Teil der STEOP.
Diese Lehrveranstaltung ist in mindestens einem zugeordneten Curriculum Teil der STEOP.

2021S, PR, 8.0h, 8.0EC

Merkmale

  • Semesterwochenstunden: 8.0
  • ECTS: 8.0
  • Typ: PR Projekt
  • Format der Abhaltung: Distance Learning

Lernergebnisse

Nach positiver Absolvierung der Lehrveranstaltung sind Studierende in der Lage die Schlüsseltechnologien der modernen Siliziumtechniken zusammenzufassen, unter Reinraumbedingungen zu arbeiten, Medien und Maschinen der Siliziumtechnologie zu verwenden, Materialien der Halbleitertechnik zu kategorisieren, elektronische Bauelemente auf Chip- bzw. Waferebene zu charakterisieren sowie bei einer Praktikumsarbeit die erworbenen Kenntnisse anzuwenden.

 

Inhalt der Lehrveranstaltung

In diesem Praktikum werden die Studenten mit den Schlüsseltechnologien der modernen Siliziumtechnik bekannt gemacht. Nach einer Sicherheitseinschulung werden die Praktikumsteilnehmer in das Arbeiten unter Reinraumbedingungen eingeführt und lernen den Umgang mit Medien und Maschinen der Siliziumtechnologie kennen. Daneben erwerben sie die notwendigen Grundkenntnisse zur Charakterisierung von Materialien der Halbleitertechnik und der elektrischen Charakterisierung von elektronischen Bauelementen auf Chip- bzw. Waferebene. Den Abschluss der Arbeiten bildet eine Praktikumsarbeit, die ein in sich geschlossenes Thema zum Ziel hat in dem die erworbenen Kenntnisee eingesetzt werden können.

Methoden

Einführung in die Siliziumtechnologie; Arbeiten unter Reinraumbedingungen; Einschulung für den Umgang mit Medien und Maschinen der Siliziumtechnologie

 

Prüfungsmodus

Mündlich

Weitere Informationen

Aufwendiges Labor / parallel mit Assistenten

Vortragende Personen

Institut

Leistungsnachweis

Beurteilt wird die Praktikumsarbeit und das zugehörige Protokoll.

 

LVA-Anmeldung

Von Bis Abmeldung bis
04.03.2021 06:00 03.07.2021 23:00 03.07.2021 23:00

Anmeldemodalitäten

Bitte kontaktieren Sie die Vortragenden bei Interesse per email.

Bitte auch um Anmeldung via TISS

Labor findet statt im: TUWien Nano-Center (Building CH)

Curricula

Literatur

Stanley Wolf, Silicon Processing for the VLSI Era, Vol. I, Process Technology, 1990, Lattice Sunset Beach, Ca, ISBN 0-961672-4-5 Stanley Wolf, Silicon Processing for the VLSI era, Vol. II, Process Integration, 1986, Lattice Sunset Beach, Ca, ISBN 0-961672-3-7 S.M. Sze, VLSI Technology, 1993, Mc Graw Hill Book D. Widmann, H. Mader, H. Friedrich, Technologie hochintegrierter Schaltungen, 1996, Springer

Weitere Informationen

  • Anwesenheitspflicht!

Sprache

Deutsch