164.006 Chemical and Physical Vapour Deposition in der Technologie
Diese Lehrveranstaltung ist in allen zugeordneten Curricula Teil der STEOP.
Diese Lehrveranstaltung ist in mindestens einem zugeordneten Curriculum Teil der STEOP.

2022S, VO, 2.0h, 2.0EC

Merkmale

  • Semesterwochenstunden: 2.0
  • ECTS: 2.0
  • Typ: VO Vorlesung
  • Format der Abhaltung: Online

Lernergebnisse

Nach positiver Absolvierung der Lehrveranstaltung sind Studierende in der Lage die Beschichtungstechniken CVD (chemical vapor deposition) und PVD (physical vapor deposition) zu beschreiben und für entsprechende Anwendungen das geeignetste Beschichtungsverfahren auszuwählen.

Inhalt der Lehrveranstaltung

Gas-Fest Reaktionen in der Technologie: Herstellung von Pulvers, Einkristallen, Beschichtungen. Möglichkeiten für chemische Gasphasenabscheidung (CVD). Technologie der PVD Verfahren (Physical Vapour Deposition). Erzeugung von Gasentladungen, Sputtern, .... Technologischer Einsatze und Anwendungsbeispiele.

Methoden

Die Lehrinhalte werden mittels Frontalunterricht im Hörsaal vermittelt. Es werden Powerpoint Präsentationen eingesetzt, deren Inhalte den Studierenden als PDF-Dateien bereits vor den Vorlesungen zur Verfügung stehen. Wenn geeignete Schaustücke vorhanden sind, werden diese während der Vorlesungen gezeigt.

Prüfungsmodus

Mündlich

Vortragende Personen

Institut

Leistungsnachweis

Eine mündliche Prüfung beim Vortragenden ist abzulegen.

LVA-Anmeldung

Von Bis Abmeldung bis
16.02.2022 00:00 20.05.2022 23:50

Anmeldemodalitäten

die VO wird im Block abgehalten

Interessenten bitte anmelden, um die Teilnehmerzahl abschätzen zu können.

Curricula

StudienkennzahlVerbindlichkeitSemesterAnm.Bed.Info
730 Verfahrenstechnik Gebundenes Wahlfach

Literatur

Es wird kein Skriptum zur Lehrveranstaltung angeboten.

Sprache

Deutsch